No processamento térmico de materiais semicondutores, a têmpera é efetuada pelo
aquecimento de pastilhas de silício de acordo com uma programação temperatura-tempo e, a seguir, pela
manutenção em uma temperatura fixa e elevada por um período de tempo preestabelecido. No dispositivo
para o processo mostrado a diante, a pastilha encontra-se em uma câmara onde há vácuo, cujas paredes são
mantidas a Tsur = 27°C, no interior da qual lâmpadas de aquecimento mantêm um fluxo térmico radiante q”s ...
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